浴火鳳凰曝光機 微影打造台灣版艾斯摩爾
微影半導體公司(Lithography Semiconductor Equipment Co., LTD)日前在台南科學園區舉行盛大的產品發表會，正式推出全球第一套採用LED光源投影曝光機的半導體晶片解決方案，為全球半導體產業帶來了一場革命性的突破。
這套創新的曝光機，是由微影半導體的創辦人胡德立領導的國際團隊在英國自主研發的成果，經過了多年的努力和挑戰，終於在今年成功地通過了台灣半導體客戶的驗證，並獲得了預約生產的多套訂單。
胡德立在發表會上分享了他的創業故事。他說，他從英國伯明罕大學畢業後，就投入了曝光機的領域，並在台灣多家半導體相關設備公司工作過，學習了各種半導體製程的知識，也認識了許多一線大廠客戶。2007年台積電的研發部門提出了一個特殊的玻璃基材產品，需要用到曝光機，並且承諾如果胡德立能做出台灣曝光機，台積電就會買一百台。雖然最後並未取得這個龐大的訂單，但是這個機會激發了胡德立的夢想，決定成立台灣半導體設備股份有限公司，也就是後來的里梭科技，從曝光機維修翻新服務開始，投入曝光微影系統的製造研發。
胡德立的研發之路一路走來遇到了許多包括資金、人才、技術、政策等方面的問題，甚至還曾經到中國大陸設廠，但卻受到了料想不到的政治阻礙，導致功敗垂成。胡德立說，他在最低潮的時候，仰賴信仰和毅力，在2019年疫情的重重打擊下並沒有放棄，終於在2021年得到了新的資金挹注。胡德立決定到英國設立研發中心，集中所有的研發能量，開始設計製造全球第一套採用LED光源投影曝光機的半導體晶片製造解決方案，並且使用全新的自製微影光學鏡頭。
胡德立的努力最終得到了回報，在2022年底將曝光機原型機運到台灣，並成功地通過了台灣半導體客戶的驗證，取得了驚人的成果。在收獲了客戶預定的多套設備訂單後，胡德立決定今年在台灣成立微影半導體公司，並且宣布將在台灣量產製造曝光機及配套的塗布顯影及檢測設備。
微影半導體的產品發表會吸引了眾多的媒體，政府部門和業界人士的關注，他們對這套創新的曝光機表示了高度的讚賞和期待。這套曝光機的優勢如下：
• 全球晶片生產首創採用LED紫外光源，相較於傳統使用的劇毒汞燈，能耗僅為1/100, 不僅節能，也減少了汞污染。
• 自研高景深長焦鏡頭配合LED光源，不但照度超越汞燈系統，還可實現GHI線快速分割及合併曝光，可大幅提升曝光品質和效率，從2吋到12吋的晶圓尺寸，雙面對準系統等，適應各種半導體製程的需求。
• 塗佈顯影、曝光、檢測三大黃光核心製程技術完全由國人主導自主研發，並將於台灣設廠生產製造，提供客製化『半導體黃光曝光生態平台』Turn-Key服務。
微影半導體的創辦人胡德立表示，這將是一種高效並且環保的新一代半導體生產設備，將為台灣半導體產業帶來巨大的競爭優勢和市場機會。期盼與更多的合作夥伴分享微影半導體的創新成果，共同推動全球半導體產業的發展。
微影半導體公司是一家專注於半導體晶片曝光設備的研發和製造的公司，成立於2023年，總部設於台灣，並在英國設有研發中心。微影半導體擁有一支由國際頂尖曝光機專家組成的技術團隊，並憑藉其自主研發的LED光源投影曝光機，為全球半導體產業提供了一種高效、環保、客製化的解決方案。微影半導體的願景是成為全球半導體設備的領導者，並為人類的科技進步和社會福祉做出貢獻。
微影發表LED光源投影曝光機
全球半導體產業迎來革命性的突破，微影半導體公司日前在台南科學園區舉行產品發表會，正式推出全球第一套採用LED光源投影曝光機的半導體晶片解決方案，這套創新的曝光機，是一項高效且環保的新一代半導體生產設備，由微影半導體創辦人胡德立領導的國際團隊，在英國自主研發的成果，於今年成功通過台灣半導體客戶的驗證，並獲得預約生產訂單，可望為台灣半導體產業帶來巨大的競爭優勢。
微影半導體董事長胡德立表示，該公司自主研發的曝光機原型機已於2022年運到台灣，並成功通過台灣半導體客戶的驗證，取得驚人的成果，在獲得客戶預定的多套設備訂單後，決定今年在台灣成立微影半導體公司，並宣布將在台灣量產製造曝光機及配套的塗布顯影及檢測設備。
微影半導體發表的曝光機優勢，包括：一、首創採用LED紫外光源，不僅節能，也減少汞污染。二、可大幅提升曝光品質和效率，適應各種半導體製程的需求。三、塗布顯影、曝光、檢測三大黃光核心製程技術完全由國人主導自主研發，並將於台灣設廠生產製造，提供客製化「半導體黃光曝光生態平台」Turn-Key服務。
胡德立強調，微影半導體曝光機產品，是一項高效並且環保的新一代半導體生產設備，期盼與更多的合作夥伴分享微影半導體的創新成果，共同推動全球半導體產業的發展。微影半導體致力為全球半導體產業提供高效、環保、客製化的解決方案。
公司基本資料
| 統一編號 | 94159214 訂閱 |
| 公司狀況 | 核准設立 「查詢最新營業狀況請至 財政部稅務入口網 」 |
| 公司名稱 | 微影半導體股份有限公司 Google搜尋 (出進口廠商英文名稱：Lithography Semiconductor Equipment CO., LTD.) 「國際貿易署廠商英文名稱查詢(限經營出進口或買賣業務者)」 |
| 章程所訂外文公司名稱 | |
| 資本總額(元) | 200,000,000 |
| 實收資本額(元) | 4,500,000 |
| 每股金額(元) | 10 |
| 已發行股份總數(股) | 450,000 |
| 代表人姓名 | 胡德立 |
| 公司所在地 | 新北市三重區三和路4段101之1號4樓 電子地圖 |
| 登記機關 | 新北市政府 |
| 核准設立日期 | 112年11月17日 |
| 最後核准變更日期 | 112年12月21日 |
| 複數表決權特別股 | 無 |
| 對於特定事項具否決權特別股 | 無 |
| 特別股股東被選為董事、監察人之禁止或限制或當選一定名額之權利 無 | |
| 所營事業資料 | CB01030 污染防治設備製造業 CB01010 機械設備製造業 CC01080 電子零組件製造業 CC01110 電腦及其週邊設備製造業 F113010 機械批發業 F113050 電腦及事務性機器設備批發業 F113100 污染防治設備批發業 F119010 電子材料批發業 F401010 國際貿易業 ZZ99999 除許可業務外，得經營法令非禁止或限制之業務 |
